Ein wichtiger Meilenstein für die Entwicklung der EUV-Lithografie (extreme ultraviolet light) in Europa bildete 1995 ein Workshop bei ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) in Oberkochen.

Neben der High-NA-EUV-Lithografie arbeitet Imec mit ZEISS im Rahmen mehrerer Industrieprogramme zusammen, darunter: Advanced Patterning – Optimierung von Lithografie- und Strukturierungsprozessen für ...